Vol. 41 No. 1 (2004)   豊かな社会に貢献する新製品·新技術特集
特集 技術論文

半導体製造用高密度プラズマCVD装置 "MAPLE"

Equipment of High Density Plasma CVD "MAPLE" for Semiconductor Device Manufacturing

松田竜一
Ryuichi Matsuda
井上雅彦
Masahiko Inoue
松田竜一
井上雅彦

携帯電話やパソコンを始めありとあらゆる電化製品にはICやLSIと呼ばれる半導体デバイスが用いられている.近年の半導体デバイスは極めて小さなトランジスタやコンデンサが髪の毛の1 000分の1程度の太さで配線されている.これらを製造する工程ではプラズマを用いた処理が行われ,中でも高密度プラズマCVD装置は,微細な配線間の絶縁処理だけでなく,ここで紹介する新しい材料を用いたデバイスの製造用として応用が期待されている.