SHARE Vol. 41 No. 1 (2004) 豊かな社会に貢献する新製品·新技術特集 特集 技術論文 半導体製造用高密度プラズマCVD装置 "MAPLE"Equipment of High Density Plasma CVD "MAPLE" for Semiconductor Device Manufacturing 和文 (126KB) 松田竜一Ryuichi Matsuda 井上雅彦Masahiko Inoue 松田竜一 井上雅彦 携帯電話やパソコンを始めありとあらゆる電化製品にはICやLSIと呼ばれる半導体デバイスが用いられている.近年の半導体デバイスは極めて小さなトランジスタやコンデンサが髪の毛の1 000分の１程度の太さで配線されている.これらを製造する工程ではプラズマを用いた処理が行われ,中でも高密度プラズマCVD装置は,微細な配線間の絶縁処理だけでなく,ここで紹介する新しい材料を用いたデバイスの製造用として応用が期待されている. 三菱重工技報 Technical Review Vol. 62 No. 3 エナジードメイン特集 Vol. 62 No. 2 物流·冷熱·ドライブシステムドメイン特集 Vol. 62 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 61 No. 4 原子力特集 Vol. 61 No. 3 マテリアリティ特集 - 三菱重工グループが考える重要課題に対する取組み - Vol. 61 No. 2 プラント·インフラドメイン特集 Vol. 61 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 60 No. 4 サービス技術特集 Vol. 60 No. 3 エナジードメイン特集 Vol. 60 No. 2 物流·冷熱·ドライブシステムドメイン特集 Vol. 60 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 59 No. 4 カーボンニュートラル特集 Vol. 59 No. 3 デジタルイノベーション特集 Vol. 59 No. 2 プラント·インフラ特集 Vol. 59 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 58 No. 4 航空宇宙特集 Vol. 58 No. 3 三菱パワー特集 Vol. 58 No. 2 物流·冷熱·ドライブシステムドメイン特集 Vol. 58 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 57 No. 4 原子力特集 Vol. 57 No. 3 工作機械特集 Vol. 57 No. 2 インダストリー＆社会基盤特集 Vol. 57 No. 1 新製品·新技術特集 Vol. 56 No. 4 冷熱特集 Vol. 56 No. 3 三菱日立パワーシステムズ特集 Vol. 56 No. 2 M-FET特集 Vol. 56 No. 1 新製品·新技術特集
